玉崎科學(xué)ONYX 3200半導(dǎo)體設(shè)備理學(xué)Rigaku光學(xué)工具
玉崎科學(xué)半導(dǎo)體設(shè)備理學(xué)Rigaku光學(xué)工具

內(nèi)聯(lián)雙頭微點(diǎn) XRF
無損晶圓檢測和計(jì)量

雙 X 射線源（多毛細(xì)管/單色），

適用于最大 300 mm 的晶圓

產(chǎn)品型號：ONYX 3200
廠商性質(zhì)：代理商
更新時(shí)間：2024-09-29
訪問量：167

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Rigaku理學(xué)

單晶結(jié)構(gòu)分析半導(dǎo)體測量設(shè)備

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詳細(xì)介紹

玉崎科學(xué)半導(dǎo)體設(shè)備理學(xué)Rigaku光學(xué)工具

ONYX 3200 概述

ONYX 3200 是市場上先進(jìn)的混合測量解決方案。這款第二代雙頭工具結(jié)合了先進(jìn)的 μXRF 和光學(xué)技術(shù)，可在在線半導(dǎo)體制造中提供高精度的缺陷檢測和最高的吞吐量。

ONYX 系列系統(tǒng)旨在在從 FEOL 到 WLP 的整個(gè)制造過程中提供全面的計(jì)量方法。這包括適合先進(jìn)封裝和單凸點(diǎn)應(yīng)用的配置，并允許監(jiān)控 Ag/Sn 比率。

優(yōu)化源性能

用于過程監(jiān)控的單μbump測量
高產(chǎn)量和增加的吞吐量
準(zhǔn)確分析金屬厚度和成分
對層厚度和成分的最大敏感性

二維顯微鏡	二維顯微鏡放大倍數(shù)	3D掃描儀

ONYX 3200 特點(diǎn)

雙頭 μXRF 配置提供分析靈活性，實(shí)現(xiàn)最佳應(yīng)用性能

單色和多色 μXRF 光學(xué)系統(tǒng)

低功率X射線，無損分析

聚焦垂直激勵(lì)配置

通過排列四個(gè)硅漂移探測器（SDD）擴(kuò)大有效面積并提高分辨率

成分分析和膜厚測量

全自動校準(zhǔn)過程提供長期穩(wěn)定性、一致性和X射線管老化校正

實(shí)現(xiàn)亞微米精度的先進(jìn)運(yùn)動平臺

內(nèi)聯(lián) HVM 測量的理想選擇

ONYX 3200 規(guī)格

測量類型	雙頭微點(diǎn) EDXRF 和光學(xué)檢測 (2D-3D)
晶圓尺寸	最大300mm
晶圓類型	毯子和圖案晶圓
導(dǎo)航	精密平臺輔以圖像識別算法，可快速亞微米導(dǎo)航至單個(gè)特征中心
微型 XRF 光束方向	正入射微點(diǎn) (μXRF)
光學(xué)系統(tǒng)	“多色"（X 射線光學(xué)）和顏色“單色"（X 射線光學(xué)）
微型 XRF 束斑尺寸	可調(diào)范圍為 10 至 50 µm
探測器類型	硅漂移探測器 (SDD)：3 種配置 1. 常規(guī) > Al 2. 輕元素：C、N、O、F、S 3. 重元素：> Ge（針對 Ag、Sn 進(jìn)行了優(yōu)化）
DPP｜數(shù)字脈沖處理器	超過 100 萬光子/秒的高效率

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